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【行业活动】4月29日IC设计与优化技术研讨会

发布时间:2021-04-23点击数:

【行业活动】IC设计与优化技术研讨会


  为适应高性能集成电路设计及优化趋势,发展高效多元、设计复杂的集成电路先进工艺技术,加强产业链相互学习和交流,了解国内外集成电路设计及高性能优化技术的进展,广州国家IC基地与国产EDA软件供应商华大九天联合举办“IC设计与优化技术研讨会”,培训内容涉及模拟/数模混合IC设计全流程解决方案以及数字时序优化、版图分析特色解决方案,欢迎微电子及半导体行业企业、各高等院校相关专业教师、研究所的同仁们光临,共同探讨集成电路设计及优化新技术和新方法。

【时间】:2021.04.29 09:00-16:30

【地点】:广州国家IC基地206培训室

【会议流程】:

    09:00 签到 高效的模拟、数模混合IC设计全流程解决方案及演示

    13:30 全面的工艺资料分析检验平台Emprean Qualib、一站式版图分析与集成平台Emprean Skipper、SPICE精度的时序分析解决方案、大容量高效的时序优化解决方案ICExplorer-XTOP


会议联系人:吕工18520323791